协积实业 绍兴东凯半导体

VCM/CMOS生产与组装核心清洁痛点与难点

        CM（音圈马达）与CMOS（图像传感器）是摄像头对焦驱动与成像采集的核心，其精密结构与敏感元件的洁净度直接决定对焦稳定性与成像画质，全流程清洁痛点突出：

• VCM马达环节：组装过程中易吸附金属粉末、线圈碎屑、油脂残留，细微杂质易进入马达内部磁路与传动结构，接触式清洁易造成线圈变形、磁路偏移，导致对焦卡顿、精度下降，甚至影响马达使用寿命；
• CMOS芯片环节：光刻、封装过程中易残留光刻胶、金属离子，表面易吸附环境微尘，微尘会直接导致成像噪点、坏点，接触式清洁易造成芯片静电损伤、感光层划伤，人工清洁无法满足微米级洁净要求；
• 高端适配环节：高端手机、车载摄像头对VCM对焦精度与CMOS成像质量要求极高，细微杂质与清洁损伤会直接导致产品不合格，进一步提升了清洁作业的技术门槛与一致性要求。

东凯·非接触式旋风清洁设备解决方案

          针对VCM/CMOS的精密结构与敏感特性，我们的设备可实现精准无损清洁，保障组件性能稳定：

• 特种结构设计：微纳级吸入口阵列布局，精准覆盖VCM马达内部、CMOS芯片表面及引脚，配合防静电气流设计，抑制粉尘静电吸附与飞散，杜绝清洁过程中的二次污染与静电损伤；
• 稳定性能保障：超精密转速监控+稳定转轴设计，供气压波动或即使达到5.0㎏/㎠时仍保持恒定低震运行，确保清洁过程中VCM线圈无变形、CMOS感光层无划伤、引脚无损伤；
• 精准高效清洁：基于现场经验与气流模拟算法，优化气嘴参数与气流路径，实现非接触式精密除尘，彻底清除VCM内部的金属粉末残留，以及CMOS表面的微尘；
• 降本提质优势：可与摄像头组装流水线联动，实现自动化清洁，减少人工干预，提升VCM对焦稳定性与CMOS成像良率，降低返工与报废成本，适配各类高端摄像头VCM/CMOS清洁场景。